ASUMI技研株式会社准分子照射装置

ASUMI技研株式会社准分子照射装置

准分子照射装置

采用以172nm紫外线为主波长的准分子照射装置进行表面改性。因为采用了RF (高频)放电灯，闪烁少的稳定的输出功率。 另外采用平面型灯，大面积实现了均匀的照射

准分子照射装置(主波长: 172nm )

Ø 因为采用了RF放电灯，闪烁少的稳定的输出功率。 采用平面型灯，大面积实现均匀的照射

Ø 准分子灯利用了封入稀有气体的灯内产生的放电等离子体(电介质阻挡放电)产生的光(准分子光)。

Ø 主要波长有126nm(Ar2)、146nm(Kr2)、172nm(Xe2)、222nm(KrCl )、308nm(XeCl )。

Ø 本公司采用利用了Xe2的以172nm为主波长的灯单元，提供表面改性、亲水化处理(润湿性方向上)用的装置

Ø 与将放电直接照射到工件的电晕放电、等离子体方式不同，准分子照射只是真空紫外线的照射，对工件几乎没有损伤。

Ø 与电极的溅射产生粉尘的电晕放电、等离子体方式不同，可进行清洁处理。

Ø 利用光的准分子照射没有处理不均。

Ø 可瞬时点亮、熄灭

Ø 因为采用了RF (高频)放电灯，闪烁少的稳定的输出功率。

Ø 采用平面型灯，大面积实现均匀的照射

ASUMI技研株式会社准分子照射装置

TAKIGEN滝源,NANSIN南星,TOSHIN CASTER东信,SISIKU狮子吼,TOSEI SHARYO渡世,,SKK斯科克,ORIIMEC欧立美克,TOKAI CASTER东海,INOAC意诺埃科,TOUHOKU CASTER东北,O.H.INDUSTRIAL OH工业,PARTS SEIKO发驰精工,YODONO世殿,TACO株式会社,TERALテラル株式会社,NOPGROUP日本油泵,DAIDOPMP大同机械制造,GEAR-ESUギヤーエス工业,KYORITSUKIKO共立机巧,TACMINA株式会社タクミナ,HAYASHIPUMP林化工机制作所,WCC株式会社ワールドケミカル,SEIKOWセイコー化工机,NAKAKINPUMP株式会社ナカキン,SPURT株式会社スプルト,KAWAPUMP川机械工业,NIKKISO日机装エイコー

MARUYAMA丸山制作所,TEIKOKUDENKI帝国电机制作所,FUKKO伏虎金属工业,FURUKAWA古河产机システムズ,HESHIN兵神装备,GRGRACOグラコ株式会社,DYNAFLOダイナフロー株式会社,SANSO三相电机株式会社,NISHIGAKI西坦泵制造株式会社,IWAYADENKI岩谷电机制作所,NIKUNI株式会社ニクニ,TOYOPUMP东洋电机工业所,EIMPUMPアイム电机工业,ELEPONエレポン株式会社,SAKURA-P樱川泵制作所,TSURUMIPUMP鹤见制作所,KAWAMOTO川本制作所,TERADAPUMP寺田泵制作所,TORISHIMA酉岛制作所,MITSUVAC三津海制作所,株式会社E.M.P，KURASHIKIKAKO仓敷化工，MIKUNI三国重工业，UNOZAWA宇野泽组铁工所,TOYOPUMPS东洋电机,株式会社PROTEC